日前，我国半导体高端技术研发体制创新迈出实质性步伐，5月16日上午，由武汉新芯、清华大学、北京大学、复旦大学、中科院微电子所等单位合作成立了“集成电路先导技术研究院”，携手打造国内最先进的集成电路工艺技术研发机构。　　随着半导体工艺技术不断推进，进入20纳米节点后，技术的开发难度和投资都大幅增加，如果能在这些尖端技术节点上整合企业和科研机构的力量，将极大提高研发的效率和进度。“集成电路先导技术研究院”将致力于整合国内IC产业链研发资源，打造一个能联动设备厂商、材料供应商、代工厂、设计企业及科研机构的公共平台。既是产、学、研、用相结合的技术创新平台，又是为国产专用设备和材料的研发提供大生产条件的验证平台。　　现阶段，研究院将以20纳米及以下的集成电路主流基础工艺为研发重点，包括先进逻辑技术基本工艺、先进非易失性存储器工艺技术、国产设备和材料的验证、相关配套IP的研发与验证等。后续随着产业技术发展和客户实际需求，将邀请设计、设备、材料公司及产业链上相关的企业，以会员、项目合作等形式加入。依托于此平台，研究院将加强国际交流合作，并推动自主知识产权体系的建立，加快专利与人才的培养，从而提升中国集成电路产业自主创新的核心竞争力。　　研究院将以企业的体制进行运作，设立董事会领导下的院长责任制和项目负责人制。从项目的立项、实施到研发成果对企业的转移，都要以市场和用户的需要为依据，以制度体系和规范化流程为保障，高效有序地开展。

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